| 仪器生产商 | ULTECH Co.Ltd (韩国） |
| 资产编号 | 2206356S |
| 资产负责人 | 邓承浩 |
| 购置日期 | 2022-11-09 |
| 仪器价格 | 611000 元 |
| 仪器产地 | 韩国 |
| 分类号 | A02062001 |
| 出厂日期 | 2022-11-09 |
| 主要规格及技术指标 | 1）腔室：不锈钢水冷壁腔室设计，翻盖操作； 2）最大承载基片直径：100mm及以上； 3）加热方式：卤素灯阵列加热，带灯管冷却控制系统； 4）最高加热温度： 1250℃及以上； 5）升温速率：10℃/s~200℃/s，可设定； 6）温度均匀性：≤±1.5% (800℃，4”硅片）； 7）温度重复性：≤±3℃ (4”硅片）； 8）最高退火持续时间：≥35min @ 1250°C（标准裸硅片）； 9）功率控制灯加热系统，脉冲模式退火，无温度过冲； 10）温度测量：采用Real T/C KIT技术，测量真正的基片温度，不能使用传统的温度补偿； 11）气路系统：设备配有1条N2吹扫及冷却气路，由MFC控制气路具有安全互锁功能； 12）真空或大气氛围下进行工艺；真空度：优于5.0×10-3 Torr； 13）软件可设置不同的工艺参数及相关硬件的自动控制，包括退火温度，泵浦时间，冷却，退火时间，气体等工艺参数，同时可监控仪器各个部件的工作状态，实时显示温度随时间曲线等，也可自动保存及调用不同的recipes，支持数据导出。 |
| 主要功能及特色 | 用于在真空或者气体环境下对被处理样品进行快速的加热与降温，实现样品高温退火的目的，主要用于注入退火，快速热氧化，接触退火，快速热氮化，扩散，致密化，结晶化，硒化，硫化，石墨烯CVD、碳纳米管快速热处理等应用领域。 |
| 主要附件及配置 | 配备水冷系统。 |