仪器生产商 | KurtJ.LeskerCompany |
资产编号 | 2006578S |
资产负责人 | 莫小明 |
购置日期 | 2020-11-27 |
仪器价格 | 1563000 元 |
仪器产地 | 美国 |
分类号 | |
出厂日期 | 2020-11-27 |
主要规格及技术指标 | 框架结构全封闭,外形整洁美观,适用于洁净间 本底真空 : 优于5X10-7torr 基片尺寸 : 6英寸,兼容小基片 靶枪配置: 3英寸靶枪3个,,非磁性材料厚度0.375英寸 靶枪电源:600W自动匹配射频电源1台,1000W直流电源1台。 样品台加热800度 控制方式 : 全自动程序控制 安全性: 全系列安全互锁,4级密码保护 镀膜均匀性: 6英寸基片不均性优于+/-5% |
主要功能及特色 | 磁控溅射仪是物理气相沉积系统,该系统适用于多种材料体系薄膜的制备,如实验室中用于在衬底上生长半导体薄膜以及一些金属电极,如SiO2,ITO,Al,Ni,Ti等。能够生长6英寸,以及不规则样片上进行材料沉积生长。 |
主要附件及配置 | 1、主机 1台; 2、循环冷却水冷水机 1台: 3、空压机 1台 4、计费信息:校外310元/小时,校内250元/每小时,院内150元/小时。 |