磁控溅射仪详细信息
仪器生产商 KurtJ.LeskerCompany
资产编号 2006578S
资产负责人 莫小明
购置日期 2020-11-27
仪器价格 1563000  元
仪器产地 美国
分类号
出厂日期 2020-11-27
主要规格及技术指标 框架结构全封闭,外形整洁美观,适用于洁净间
本底真空 : 优于5X10-7torr
基片尺寸 : 6英寸,兼容小基片
靶枪配置: 3英寸靶枪3个,,非磁性材料厚度0.375英寸
靶枪电源:600W自动匹配射频电源1台,1000W直流电源1台。
样品台加热800度
控制方式 : 全自动程序控制
安全性: 全系列安全互锁,4级密码保护
镀膜均匀性: 6英寸基片不均性优于+/-5%
主要功能及特色 磁控溅射仪是物理气相沉积系统,该系统适用于多种材料体系薄膜的制备,如实验室中用于在衬底上生长半导体薄膜以及一些金属电极,如SiO2,ITO,Al,Ni,Ti等。能够生长6英寸,以及不规则样片上进行材料沉积生长。
主要附件及配置 1、主机 1台;
2、循环冷却水冷水机 1台:
3、空压机 1台

4、计费信息:校外310元/小时,校内250元/每小时,院内150元/小时。